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行業(yè)產(chǎn)品

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邁浦特機械(四川)有限公司


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電子束蒸發(fā)散熱用工業(yè)冷水機

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參   考   價: 155000

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號

品       牌邁浦特 MAIPT

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地蘇州市

塑料機械網(wǎng)采購部電話:0571-88918531QQ:2568841715

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更新時間:2025-08-15 08:45:07瀏覽次數(shù):52次

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經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:57條

所在地區(qū):四川成都市

聯(lián)系人:馬斌 (銷售工程師)

產(chǎn)品簡介

電子束蒸發(fā)散熱用工業(yè)冷水機為解決上述痛點設計,采用高精度閉環(huán)制冷系統(tǒng),控溫范圍 5 - 35℃,溫度穩(wěn)定性達 ±0.5℃,可承受 500 - 800W/cm² 的熱流密度,適配 10?? - 10??Pa 高真空環(huán)境。通過精準冷卻電子槍陽極與坩堝底部,使薄膜厚度均勻性提升至 ±1% 以內(nèi),附著力≥40MPa。馬(技術(shù)員企微):①⑨①⑧②②o④④⑦⑥

詳細介紹

一、產(chǎn)品簡介
電子束蒸發(fā)鍍膜工藝中,電子槍(功率 1 - 50kW)、坩堝(溫度≥1500℃)、真空室壁等核心部件會產(chǎn)生集中的熱量,若散熱失效,1℃的溫度波動就會導致薄膜沉積速率偏差≥2%、折射率波動≥0.005,直接造成鏡片透光率下降 3% 以上、半導體鍍層電阻率超標 5%。傳統(tǒng)水冷設備存在控溫精度低(±2℃)、真空兼容性差(泄漏率≥1×10??Pa?m3/s)等問題,導致鍍膜合格率不足 85%。
電子束蒸發(fā)散熱用工業(yè)冷水機為解決上述痛點設計,采用高精度閉環(huán)制冷系統(tǒng),控溫范圍 5 - 35℃,溫度穩(wěn)定性達 ±0.5℃,可承受 500 - 800W/cm2 的熱流密度,適配 10?? - 10??Pa 高真空環(huán)境。通過精準冷卻電子槍陽極與坩堝底部,使薄膜厚度均勻性提升至 ±1% 以內(nèi),附著力≥40MPa.
二、產(chǎn)品描述
(一)高功率密度制冷系統(tǒng)
  1. 核心配置:實現(xiàn) 5 - 35℃寬域控溫,靜態(tài)精度 ±0.5℃。針對電子槍與坩堝的差異化散熱需求,設計 2 - 4 路獨立回路(流量 0.5 - 5m3/h 可調(diào)),通過電磁比例閥動態(tài)分配流量,確保兩者溫差≤1℃,真空室壁軸向溫差≤1.5℃。

  1. 瞬態(tài)響應技術(shù):內(nèi)置脈沖制冷補償模塊,當電子束功率從 10kW 驟升至 30kW 時(熱負荷突變 200%),3 秒內(nèi)提升制冷量至額定值的 150%,避免溫度超調(diào)(≤0.8℃),解決薄膜沉積初期的厚度偏差問題(從 ±5% 降至 ±1%)。

(二)真空環(huán)境適配設計
  1. 低污染架構(gòu):與冷卻介質(zhì)接觸的管路、泵體采用 316L 不銹鋼(電解拋光 Ra≤0.02μm),密封件選用全氟醚橡膠(蒸發(fā)率≤1×10?1?Pa?m3/s),避免揮發(fā)物污染真空室(顆粒物濃度≤1 個 /cm3)。配備超純水循環(huán)系統(tǒng)(電阻率≥18.2MΩ?cm),通過 0.2μm 終端過濾器,確保冷卻水電導率≤0.1μS/cm,防止電子槍短路(故障率從 0.5 次 / 月降至 0.05 次 / 月)。

  1. 防泄漏控制:采用 KF 真空法蘭接口(泄漏率≤1×10??Pa?m3/s),配合壓力傳感器(精度 ±0.01MPa)實時監(jiān)測回路密封性,當真空度低于 10??Pa 時自動提升水壓 0.2MPa,杜絕氣蝕現(xiàn)象(氣泡含量≤0.01%)。

(三)智能聯(lián)動系統(tǒng)
  1. 設備協(xié)同:通過 RS485 接口與電子束蒸發(fā)機(如德國 Leybold、中國北儀創(chuàng)新)聯(lián)動,實時接收束流強度(10 - 100mA)、蒸發(fā)速率信號,自動調(diào)節(jié)制冷量。支持遠程監(jiān)控(OPC UA 協(xié)議),可接入 MES 系統(tǒng)記錄溫度曲線與薄膜參數(shù)(存儲時間≥3 年),滿足半導體行業(yè)追溯要求。

  1. 安全機制:具備超溫聯(lián)鎖(水溫≥40℃停機)、流量不足保護(響應時間≤0.5s)、真空異常聯(lián)動等 12 項安全功能,配備備用冷卻回路,確保設備故障時鍍膜過程不中斷(連續(xù)生產(chǎn)時間≥1000 小時)。

三、應用場景
  1. 光學鏡片鍍膜:為 Φ300mm 激光鏡片的增透膜(SiO?)蒸發(fā)提供冷卻,控制電子槍溫度 25±0.3℃,使膜層厚度均勻性(Φ100mm 內(nèi))≤±0.5%,透光率提升至 99.5%,滿足激光設備的高能量傳輸需求。

  1. 半導體晶圓鍍膜:在 8 英寸硅片的鋁金屬化蒸發(fā)中,維持坩堝冷卻水溫 15±0.3℃,鋁膜電阻率偏差≤±1%,光刻對準精度提升至 ±0.1μm,適配 7nm 制程芯片的導電層要求。

  1. 紅外窗口鍍膜:針對鍺窗口的增透膜(ZnS)蒸發(fā),通過雙回路控溫(電子槍 10℃、真空室 20℃),使膜層耐溫沖擊(-50℃至 120℃)無脫落,滿足航天遙感設備的惡劣環(huán)境使用需求。








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